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VacTechniche真空鍍膜系統沉積和熱蒸發器

英國VacTechniche,真空鍍膜系統,濺射鍍膜機,PLD-T 脈沖激光器，沉積和熱蒸發器

PLD-T 脈沖激光器沉積和熱蒸發器

SEM/TEM 樣品制備 Vac Techniche

多功能脈沖激光沉積和熱蒸發器系統 – PLD-T 是一種高真空薄膜沉積系統，可通過脈沖激光沉積和熱蒸發技術沉積不同的材料。它可以將復雜材料和晶體結構沉積到基板上，只需很少的設置。

脈沖激光沉積技術可實現高效的非熱燒蝕，并保持靶材的化學計量。通過應用這種方法，它可以沉積氮化物、氧化物、超晶格、聚合物和復合材料等材料。

PLD-T
熱蒸發源
（舟/籃/盤管）

脈沖激光沉積系統可配備三個獨立的熱阻熱蒸發源。蒸發源支架的良好設計不會使污染物從源材料轉移到其他材料。源架的長度可在 5~10 cm 范圍內調節，滿足客戶要求。

DCT-Desktop 碳素涂布機

轉速可調的目標機械手
3 個熱源和特殊的饋入件
用于實時厚度測量的石英晶體監測系統（精度為 1 nm）
直觀的觸摸屏，用于控制涂層過程和快速數據輸入
等離子清洗
用戶友好型軟件，可通過網絡更新
配備旋轉樣品架
配備電子快門
配備機動船選擇
500 °C 基板加熱器
兩年保修

VacTechniche真空鍍膜系統沉積和熱蒸發器

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VacTechniche真空鍍膜系統沉積和熱蒸發器

PLD-T 脈沖激光器沉積和熱蒸發器

多功能脈沖激光沉積和熱蒸發器系統 – PLD-T 是一種高真空薄膜沉積系統，可通過脈沖激光沉積和熱蒸發技術沉積不同的材料。它可以將復雜材料和晶體結構沉積到基板上，只需很少的設置。

脈沖激光沉積技術可實現高效的非熱燒蝕，并保持靶材的化學計量。通過應用這種方法，它可以沉積氮化物、氧化物、超晶格、聚合物和復合材料等材料。

PLD-T
熱蒸發源
（舟/籃/盤管）

DCT-Desktop 碳素涂布機

轉速可調的目標機械手

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VacTechniche真空鍍膜系統 沉積和熱蒸發器

PLD-T 脈沖激光器沉積和熱蒸發器

多功能脈沖激光沉積和熱蒸發器系統 – PLD-T 是一種高真空薄膜沉積系統，可通過脈沖激光沉積和熱蒸發技術沉積不同的材料。它可以將復雜材料和晶體結構沉積到基板上，只需很少的設置。

脈沖激光沉積技術可實現高效的非熱燒蝕，并保持靶材的化學計量。通過應用這種方法，它可以沉積氮化物、氧化物、超晶格、聚合物和復合材料等材料。

PLD-T熱蒸發源（舟/籃/盤管）

DCT-Desktop 碳素涂布機

轉速可調的目標機械手

3 個熱源和特殊的饋入件

用于實時厚度測量的石英晶體監測系統（精度為 1 nm）

直觀的觸摸屏，用于控制涂層過程和快速數據輸入

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PLD-T
熱蒸發源
（舟/籃/盤管）